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导流分压式双正压净化工作台的设计和特点_ 上海博迅实业有限公司医疗设备厂

[导读]在高校的微电子、半导体物理实验中,光刻实验 是必不可少的实验之一。光刻实验对环境的洁净度要 求很高,一般高校在没有财力建设洁净室的情况下,上海博迅实业有限公司医疗设备厂净化工作台成为了进行光刻实验不可缺少的必要设备。

导流分压式双正压净化工作台的设计和 特点

实验需求 

在高校的微电子、半导体物理实验中,光刻实验 是必不可少的实验之一。光刻实验对环境的洁净度要 求很高,一般高校在没有财力建设洁净室的情况下, 净化工作台成为了进行光刻实验不可缺少的必要设 备。一般来说光刻实验进行的步骤有:旋涂光刻胶; 光刻胶的前烘;曝光;显影;后烘等步骤构成。在这 些实验步骤中所涉及的化学药品较多,而这些化学药 品的溶剂多为苯类物质,如果处理不当将给实验人员 带来较大的伤害。同时,由于实验的步骤较多,实验 人员需要频繁地从净化工作台中取、放物品,这将引 入大量的灰尘影响工作时的洁净度。因此,设计一种 低成本,有效阻隔有毒气体,提高工作时洁净度的净 化工作台显得十分重要。 

导流分压式双正压净化工作台的结构设计 

基于以上的设计要求,一种新型的导流分压式双正 压净化工作台结构如图2所示。设计的具体思路如下:

在净化工作台的高效过滤器出风口与散流板 之间增加一个导流分压区。导流分压区的结构如图3 所示。导流分压区以高效过滤器出风口和散流板为上 下两个面,形成一个腔体,在两面之间用一块倾斜的 隔板将该腔体分为两个封闭的梯形区域,如图3中的A 和B所示。

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